濺射蒸碳儀 型號:YBT3-ETD-2000C

原理：
濺射功能依據(jù)二極(DC)直流濺射原理。濺射電流調(diào)整控制器、微型真空氣閥在工作時結(jié)
合內(nèi)部自動控制電路控制真空室壓強、電離電流及任意選擇所需要的電離氣體。根據(jù)電場中
氣體電離特性，采用大容量樣品濺射真空室和相應(yīng)面積濺射靶，使濺射鍍層均勻純|凈。
熱蒸發(fā)功是能通過對碳纖維繩加熱使其蒸發(fā)氣化而沉積與基體或工件表面并形成薄膜
或涂層的工藝。

濺射蒸碳儀 型號:YBT3-ETD-2000C

參數(shù)：
? 儀器尺寸 ：305mm×400mm×390mm（W×D×H）
? 真空樣品室： 硼硅酸鹽玻璃 160mm×110mm（D×H）
? 靶（上部電極）：50mm×0.1mm（D×H）
? 濺射靶材：Au
? 濺射靶材大?。害?50mm
? 樣品臺：50mm (D)
? 濺射工作電壓：0-1600V (DC)可調(diào)
? 濺射電流：0-50mA
? 濺射定時：0-360S
? 蒸碳電流 0-100A(AC)
? 蒸發(fā)材料：碳纖維
? 蒸發(fā)工作電壓：0-30V
? 蒸發(fā)時間：0-1S
? 微型真空氣閥：可連接φ 3mm 軟管
? 可通入氣體： 多種
? 真空泵： 2 升機械旋轉(zhuǎn)泵（國產(chǎn) VRD-8）
用途：
適用于電鏡實驗室的掃描電子顯微鏡（SEM）樣品制備，非導體材料實驗電極制作。
特點：
1、簡單、。
2、可調(diào)節(jié)濺射電流和真空室壓強以控制鍍膜的速率和顆粒的大小。
4、真空保護可避免真空過低造成設(shè)備短路。
5、同時可以通過換不同的靶材（金、鉑、銥、銀、銅等），以達到geng細顆粒的涂層。
6、通過通入不同的惰性氣體以達到純凈的涂層。
7、數(shù)字計時器定時方便。
8、計時器可隨時停止，觀察樣品涂層，并可繼續(xù)工作。
9、可調(diào)節(jié)樣品臺，適用于多種樣品。
10、一體機。
11、碳纖維繩細膩均勻、快速，有利于分析材料結(jié)構(gòu)。
12、濺射蒸發(fā)功能一鍵切換，蒸碳附件安裝方便快|捷。